NAP-STM
一、设备图片
二、设备型号、关键性能参数 设备型号:SPECS NAP-STM 关键性能参数: 工作压力:UHV-100 mbar 样品台温度:220 K – 800 K 扫描范围:1000 nm x 1000 nm 探针稳定性:Drift in UHV (220 K<T<RT) <0.05 nm/min (vert), <0.15 nm/min(lat) 三、设备原理 STM(扫描隧道显微镜),通过高精度陶瓷管实现扫描探针在原子尺度上可控运动,测量扫描探针和样品表面隧穿电流,实现材料表面原子结构、电子结构的观测。传统STM工作在超高真空环境下以获得良好的稳定性和高分辨率,近常压扫描隧道显微镜(NAP-STM)可以突破高真空或超高真空下的壁垒,实现在近常压的条件下通入可控气氛组成测量其对样品表面结构的影响。
四、应用范围 材料表面形貌分析 材料表面结构分析
五、设备特色 近常压条件下原位成像 快速扫描 针尖原位刻蚀处理
六、应用领域 氧化物薄膜、半导体、催化、生物,材料 |