NAP-XPS

一、设备简介 

二、设备型号、关键性能参数

型号：SPECS NAP-XPS 

关键性能参数：

工作压力：UHV-25 mbar

能量分辨率：Ag 3d5/2, <0.5 eV FWHM at 20 kcps @UHV

样品台温度：220 K-1500 K

三、设备原理

X射线光电子能谱(XPS)是一种用于测定材料中元素构成，以及其中所含元素化学态和电子态的定量能谱技术。该种技术用X射线照射所要分析的材料，同时测量从材料表面及以下若干纳米范围内逸出电子的动能和数量，从而得到X射线光电子能谱。传统X射线光电子能谱技术需要在超高真空环境下进行，而近常压光电子能谱系统(NAP-XPS)则可以突破高真空或超高真空下的壁垒，实现在近常压的条件下进行光电子能谱测量。它的应用使得在近常压下对固-气、液-气界面进行化学成分、氧化态以及电子结构的实时原位分析成为可能。

四、应用范围

材料表面元素组成分析

材料表面成分价态分析

五、设备特色

单色化X射线源

UHV-近常压工作气氛可调

样品原位加热

六、应用领域

超导、拓扑绝缘体、化合物半导体、半导体、催化、生物，材料