脉冲激光沉积系统
| 一、设备简介
二、设备型号和关键性能参数 型号：PLD-300 真空极限：超高真空（优于2x10^-10 torr ，经烘烤除气后） 样品台加热温度： RT -1000℃ 样品尺寸：最大2英寸 激光波长：248nm 激光最大脉冲能量：800mJ 激光脉冲频率范围：1~10Hz
三、设备特色 整个PLD镀膜过程通常分为三个阶段。 1.激光与靶材相互作用产生等离子体。 2.等离子体火焰形成后，其与激光束继续作用，进一步电离 3.等离子体在基片上成核、长大形成薄膜。
四、设备特色 超高真空（优于2x10^-10Pa，经烘烤除气后） 差分式高能电子衍射仪（实时原位精确地控制原子层或原胞层尺度的外延膜生长，检测样品的表面结构） 进样室配有样品库（装载6片样品或靶材等） 可实现不破真空更换靶材
五、设备应用范围
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